高速涂料二氧化硅分散機(jī)

納米二氧化硅分散在多個(gè)領(lǐng)域都有著重要的應(yīng)用，如：改性樹脂，改性紡織材料，改性涂料，改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果，粒徑越小分散越均勻，分散效果就越好。SID研磨分散機(jī)獨(dú)特的結(jié)構(gòu)，全新的技術(shù)，專業(yè)應(yīng)對(duì)于納米級(jí)物料的分散，先研磨后分散，避免團(tuán)聚，分散效果好。

           
對(duì)于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn)，納米分散存在著難以解決的問題，納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，導(dǎo)致物料粒徑變大，難以分散。面對(duì)這種情況，SID研發(fā)出新型設(shè)備-研磨分散機(jī)，應(yīng)對(duì)納米物質(zhì)的分散問題。并有著廣泛的實(shí)例，如納米級(jí)白炭黑的分散，納米級(jí)石墨烯的分散，都在使用SID研磨分散機(jī)進(jìn)行分散處理，效果xian著。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

SID 納米研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。

GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

高速涂料二氧化硅分散機(jī)設(shè)備型號(hào)參數(shù)表：